硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,被氧化的金属离子与CL-作用生成的可溶性络合物亦随去离子水冲洗而被去除。昆明高空清洗、昆明高空清洗公司、云南高空清洗、云南高空清洗公司云南佳百洁清洗服务有限公司为你讲解太阳能硅片的化学清洗。
1、使用强氧化剂使“电镀”附着到硅表面的金属离子、氧化成金属,溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。
2、用无害的小直径强正离子(如H+)来替代吸附在硅片表面的金属离子,使之溶解于清洗液中。
3、用大量去离水进行超声波清洗,以排除溶液中的金属离子。自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以RCA清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来。
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